權(quán)利要求的保護(hù)范圍是由權(quán)利要求中記載的全部?jī)?nèi)容作為一個(gè)整體限定的，因此每一項(xiàng)權(quán)利要求只允許在其結(jié)尾處使用句號(hào)。
權(quán)利要求書(shū)有幾項(xiàng)權(quán)利要求的，應(yīng)當(dāng)用阿拉伯?dāng)?shù)字順序編號(hào)。
權(quán)利要求中使用的科技術(shù)語(yǔ)應(yīng)當(dāng)與說(shuō)明書(shū)中使用的科技術(shù)語(yǔ)一致。權(quán)利要求中可以有化學(xué)式或者數(shù)學(xué)式，但是不得有插圖。除絕對(duì)必要外，權(quán)利要求中不得使用“如說(shuō)明書(shū)……部分所述”或者“如圖……所示” 等類似用語(yǔ)。絕對(duì)必要的情況是指當(dāng)發(fā)明或者實(shí)用新型涉及的某特定形狀僅能用圖形限定而無(wú)法用語(yǔ)言表達(dá)時(shí)，權(quán)利要求可以使用“如圖……所示”等類似用語(yǔ)。
權(quán)利要求中通常不允許使用表格，除非使用表格能夠更清楚地說(shuō)明發(fā)明或者實(shí)用新型要求保護(hù)的主題。
權(quán)利要求中的技術(shù)特征可以引用說(shuō)明書(shū)附圖中相應(yīng)的標(biāo)記，以幫助理解權(quán)利要求所記載的技術(shù)方案。但是，這些標(biāo)記應(yīng)當(dāng)用括號(hào)括起來(lái)，放在相應(yīng)的技術(shù)特征后面。附圖標(biāo)記不得解釋為對(duì)權(quán)利要求保護(hù)范圍的限制。
通常，一項(xiàng)權(quán)利要求用一個(gè)自然段表述。但是當(dāng)技術(shù)特征較多，內(nèi)容和相互關(guān)系較復(fù)雜，借助于標(biāo)點(diǎn)符號(hào)難以將其關(guān)系表達(dá)清楚時(shí)，一項(xiàng)權(quán)利要求也可以用分行或者分小段的方式描述。
通常，開(kāi)放式的權(quán)利要求宜采用“包含”、“包括”、“主要由……組成”的表達(dá)方式，其解釋為還可以含有該權(quán)利要求中沒(méi)有述及的結(jié)構(gòu)組成部分或方法步驟。封閉式的權(quán)利要求宜采用“由……組成”的表達(dá)方式，其一般解釋為不含有該權(quán)利要求所述以外的結(jié)構(gòu)組成部分或方法步驟。
一般情況下，權(quán)利要求中包含有數(shù)值范圍的，其數(shù)值范圍盡量以數(shù)學(xué)方式表達(dá)，例如，“≥30℃”、“＞5” 等。通常，“大于”、“小于”、“超過(guò)”等理解為不包括本數(shù)； “以上”、“以下”、“以內(nèi)”等理解為包括本數(shù)。
在得到說(shuō)明書(shū)支持的情況下，允許權(quán)利要求對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型作概括性的限定。通常，概括的方式有以下兩種：
(1)用上位概念概括。例如，用“氣體激光器” 概括氦氖激光器、氬離子激光器、一氧化碳激光器、二氧化碳激光器等。又如用“Ｃ1—Ｃ4 烷基” 概括甲基、乙基、丙基和丁基。再如，用“皮帶傳動(dòng)”概括平皮帶、三角皮帶和齒形皮帶傳
動(dòng)等。
(2)用并列選擇法概括，即用“或者” 或者“和”并列幾個(gè)必?fù)衿湟坏木唧w特征。例如， “特征Ａ、Ｂ、Ｃ或者Ｄ”。又如，“由Ａ、Ｂ、Ｃ和Ｄ組成的物質(zhì)組中選擇的一種物質(zhì)”等。
采用并列選擇法概括時(shí)，被并列選擇概括的具體內(nèi)容應(yīng)當(dāng)是等效的，不得將上位概念概括的內(nèi)容，用“或者”與其下位概念并列。另外，被并列選擇概括的概念，應(yīng)含義清楚。例如在“Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ或者類似物(設(shè)備、方法、物質(zhì))” 這一描述中， “類似物” 這一概念含義是不清楚的，因而不能與具體的物或者方法(Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ) 并列。
本網(wǎng)站轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音頻視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有人所有，本網(wǎng)站采用的非原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無(wú)法一一和版權(quán)者聯(lián)系，如果所選內(nèi)容的文章作者及編輯認(rèn)為其作品不宜上網(wǎng)供大家瀏覽，或不應(yīng)無(wú)償使用，請(qǐng)及時(shí)留言通知我們，以迅速采取適當(dāng)措施，如刪除或支付稿酬，避免給雙方造成不必要的損失。
專利百科—權(quán)利要求的撰寫(xiě)規(guī)定
